17.07.2000  ИТ-рынок

Закон Мура продолжает действовать: новая технология обещает более мощные микросхемы Частные компании в сотрудничестве с государственными научно-исследовательскими лабораториями приступают к выполнению проекта, который должен вновь подтвердить справедливость закона Мура. Группа компаний, возглавляемая ведущими изготовителями микросхем (Intel, AMD и Motorola), с целью разработки передовой технологии литографии, начинает сотрудничество с Виртуальной национальной лабораторией (Virtual National Laboratory, VNL), в которую входят три лаборатории Министерства энергетики США: Sandia National Laboratories, Lawrence Livermore Laboratory and Lawrence Berkeley National Laboratory. Литография в крайнем ультрафиолете (Extreme Ultra Violet, EUV) обещает вновь подтвердить закон Мура, дав возможность изготавливать микросхемы с шириной проводников менее 0,1 мкм, что обеспечит еще более плотную упаковку цепей на кристалле. Как отмечают исследователи, новый технологический процесс позволит получать микросхемы, которые будут обладать в 100 раз более высоким быстродействием и в 100 раз большим объемом памяти, чем это возможно при использовании сегодняшних технологических процессов. Еще 35 лет назад один из основателей корпорации Intel Гордон Мур выявил закономерность, согласно которой мощность микросхем удваивается примерно каждые полтора года. Это наблюдение стало руководящим принципом развития всей полупроводниковой отрасли. Intel рассчитывает, что переход на технологию EUV продлит действие ... читать далее.