28.04.2022 НовостиПо сообщению Департамента инвестиционной и промышленной политики Москвы, резиденты особой экономической зоны «Технополис Москва» и ученые Национального исследовательского университета МИЭТ ведут исследования для создания установки, которая позволит печатать микросхемы размером 28 нм и ниже, востребованным в современной микроэлектронике. Резиденты ОЭЗ Москвы участвуют в проекте по созданию технологии и разработке установки-литографа для производства микросхем. Работы по проекту проходят на базе НИУ МИЭТ при участии «Зеленоградского нанотехнологического центра» – резидента столичного технополиса. Производственные мощности кластера микроэлектроники столичной ОЭЗ будут задействованы для изготовления необходимых проекту образцов. Как отмечают в МИЭТ, если работа завершится успешно, за ней последует опытно-конструкторский проект по созданию литографической установки. Установку можно будет использовать для производства чипов 28 нм и ниже на базе российских синхротронов и плазменных источников излучения. Ученые МИЭТ в кооперации с резидентами ОЭЗ ...
читать далее.