30.03.2004 НовостиКомпания Fujitsu Limited (www.fujitsu.com) объявила о том, что принято решение о строительстве новой фабрики полупроводников в префектуре Мие (Япония), на которой планируется массовое производство КМОП-микросхем по проектным нормам 90 нм с дальнейшим переходом на 65-нм технологию. Площадь чистой комнаты составит 12 000 кв. м.Будут использоваться подложки диаметром 300 мм. Минимальный объем выпуска - одна подложка с несколькими различными микросхемами.Для минимизации ущерба от землетрясений здание фабрики будет установлено на поглощающих сейсмические толчки структурах и снабжено системами контроля микровибраций.Выпуск продукции начнется в апреле 2005-го. Выход на проектную производительность в 13 000 подложек в месяц запланирован на сентябрь того же ...
читать далее.