19.02.2014 Новости, Промышленная автоматизация/САПРОАО «НИИМЭ и Микрон», один из крупнейших производителей и экспортеров микросхем и RFID-продукции в Восточной Европе и СНГ, входящий в отраслевой холдинг ОАО «РТИ», завершил разработку собственной технологии создания интегральных схем по топологии 65 нанометров и планирует в 2014 году начать их серийное производство на своем заводе в Зеленограде. Разработка 65-нм технологии, занявшая около двух лет, успешно завершилась в декабре 2013 года: были получены первые работающие тестовые кристаллы. Исследования показали, что транзисторы в новых кристаллах работают в 1,5 раза быстрее, чем выполненные по уже освоенной в производстве 90-нм технологии, при одновременном снижении потребляемой энергии более чем в 2 раза. В технологическом процессе использовалась ультрафиолетовая фотолитография с длиной волны излучений 193 нм, которая применяется для серийного производства 90-нм чипов. Для получения транзисторов по топологии 65 нм специалистами «Микрона» были разработаны специальные алгоритмы внесения оптической коррекции фотолитографии, проведена оптимизация плазмохимических процессов, химико-механической обработки, ионной имплантации, операций термического окисления, а также разработаны модели работы транзисторов и других элементов. После завершения разработки правил проектирования (PDK) и описания экспериментальных моделей работы всех элементов, предназначенных для оптимизации процесса проектирования, они будут переданы российским дизайн-центрам. «Освоение „Микроном“ 90-нм технологии и ...
читать далее.
