04.05.2022  Новости, Государство и ИТ, Компьютеры, ноутбуки и КПК, Российские вендоры hardware, Учебные центры, учебные заведения

Резиденты особой экономической зоны «Технополис Москва» и учёные Национального исследовательского университета «МИЭТ» проводят исследования для создания установки, которая позволит печатать микросхемы размером от 28 нанометров и ниже, востребованным в современной микроэлектронике. Об этом сообщил руководитель Департамента инвестиционной и промышленной политики, входящего в Комплекс экономической политики и имущественно-земельных отношений столицы, Владислав Овчинский. «Резиденты ОЭЗ Москвы участвуют в проекте по созданию технологии и разработке установки-литографа — уникального оборудования для производства микросхем. Научные работы по проекту проходят на базе НИУ МИЭТ при участии Зеленоградской компании — резидента столичного технополиса. Производственные мощности кластера микроэлектроники столичной ОЭЗ будут задействованы для изготовления необходимых проекту образцов», — рассказал Владислав Овчинский. Установка сможет использоваться для производства чипов топологических размеров от 28 нанометров и ниже на базе российских синхротронов и плазменных источников излучения. Ученые МИЭТ в кооперации с резидентами ОЭЗ Москвы сегодня изучают возможность реализации технологии. По словам проректора по научной работе МИЭТ Сергея Гаврилова, если эта работа завершится успешно, за ней последует опытно-конструкторский проект по созданию литографической установки. «Резиденты ОЭЗ Москвы вносят значительный вклад в отечественную инноватику и микроэлектронную промышленность. Так, резидент — ... читать далее.