27.12.2005  Экспертиза

Ренат Юсупов, старший вице-президент по технологиям компании Kraftway Повсеместное использование параллельных технологий сегодня относится к магистральным направлениям развития индустрии, позволяющим преодолеть существующие технологические ограничения в дальнейшем наращивании производительности систем. Достижение пределов Прежде всего, если посмотреть на современные полупроводниковые технологии, можно увидеть, что мы достигли технологических пределов. При технологическом процессе производства микропроцессоров в 65 и 45 нм мы имеем дело со слоями около 100 атомов (постоянная кристаллической решетки кремния 0,54 нм). В результате появляется множество проблем, которые раньше не возникали. Начинают играть существенную роль квантовые эффекты, паразитные токи утечки, сильно повышаются требования к степени чистоты материалов и технологическому оборудованию. Проектирование вентилей также становится процессом нелинейным, практически вероятностным. В значительной степени исчерпаны и возможности микроархитектуры. В современных процессорах на подложке размещается около миллиарда элементов, что также приводит к дополнительным проблемам. Так, возникает проблема синхронизации сигналов на большой площади кристалла при большом количестве вентилей. Сигналу требуется время на распространение от одной части микросхемы к другой через множество полевых транзисторов. Приходится проектировать сложные системы тактирования, которые синхронизируют сигналы в разных точках микросхемы. Если раньше эти ... читать далее.