31.07.2021 Новости, Исследования и разработкиВ ходе прошедшей недавно онлайн-конференции Intel Accelerated было объявлено о планах переименования технологических процессов, намеченных Intel к освоению, в рамках перспективного roadmap. Суть в том, что из названий техпроцессов компании уходит само упоминание физических мер длины. Например, активно разрабатываемый сейчас инженерами Intel технологический процесс, ранее известный как 10nm Enhanced SuperFin, отныне будет официально именоваться Intel 7. Следующим перспективным техпроцессом должен стать Intel 4, известный сейчас как 7 нм. А с 2024 г. в техпроцессах ожидается переход от условных нанометров к не менее условным ангстремам. И первым из них станет принципиально новый техпроцесс Intel 20A. С чисто маркетинговым описанием плана перспективных разработок Intel можно подробнее ознакомиться в публикации www.itbestsellers.ru. Мы же остановимся на ряде технологических аспектов перспективных разработок Intel, упоминавшихся в рамках онлайн-конференции. В рамках техпроцесса Intel 7, например, предполагается использовать усиление упругой деформации кремниевой подложки (strained silicon), применять материалы с пониженным электрическим сопротивлением и другие современные технологии. Intel 4 будет первым из технологических процессов вендора, который проводится целиком с использованием фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV) с длиной волны рабочего луча 13,5 нм. Нынешние техпроцессы, напомним, оперируют рабочим лучом с длиной волны 193 нм. А техпроцесс Intel 20A ...
читать далее.
