11.11.2022 Экспертиза, Компьютеры, ноутбуки и КПКВ индустрии производства полупроводниковых микросхем в последнее время экспертами отмечаются две разнонаправленные тенденции. Мы о них уже уже неоднократно говорили, но стоит еще раз напомнить. С одной стороны, заказчики (fabless-разработчики СБИС) сокращают объём заказов на новые чипы у их непосредственных изготовителей. С другой стороны, сами эти изготовители продолжают расширять чипмейкерские мощности — что уже приводит к затовариванию складов и снижению цен на микросхемы. Сейчас в дополнение к двум старым набирает силу новая тенденция. Суть ее в том, что на этапе литографирования пластин-заготовок с будущими чипами внезапно обнаружилась довольно значительная проблема, из-за которой переизбыток СБИС на рынке вскоре вновь может смениться дефицитом. Речь идёт о затруднениях с поставками чипмейкерам такого существенного (расходного, подчеркнём) элемента литографических машин, как фотомаска: шаблон, проходя сквозь который (или отражаясь от которого — для 5-нм и более миниатюрных техпроцессов), световой поток формирует на поверхности пластины-заготовки «негатив» одного из слоёв будущей СБИС. Ведущие изготовители фотомасок — компании Photronics (ранее PKL), Toppan, Dai Nippon Printing (DNP) и TMC — сталкиваются с затруднениями в попытках удовлетворить неуклонно растущий спрос со стороны чипмейкеров. В результате ещё до конца текущего года цены на эти узлы литографических машин вырастут по прогнозам экспертов не менее чем на 10% от ранее достигнутых максимальных ...
читать далее.
