08.09.2025 Новости, Компьютеры, ноутбуки и КПК, Новые продукты, Российские вендоры hardwareЙошкар-олинский производитель печатных плат «Технотех» получил первый патент на раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления. Состав является критически важным элементом в процессе производства печатных плат. Автором изобретения выступил руководитель Центра научных разработок предприятия Андрей Алкаев. По его словам, работа над созданием отечественного аналога была инициирована в 2022 году после санкций, которые полностью заблокировали поставки спецхимии из Европы и США. Именно состав для удаления фоторезиста закончился на предприятии первым. «Времени и вариантов не было, нужно было действовать — здесь и сейчас», — вспоминает представитель «Технотеха». Так, сотрудники Центра не только создали аналог раствора, но и провели необходимые опыты, сразу внедрив его в рабочие процессы. На вопрос о наличии альтернатив разработке собственного решения Андрей Алкаев ответил: «Да, мы могли откатиться назад и заменить раствор устаревшим процессом на основе минеральной щелочи. Однако риски производить брак были велики, так как такой состав травит олово, сильно окисляет медь и неприменим для комбинированного метода изготовления печатных плат. Массовый брак был бы неизбежен». От идеи до реализации прошло около двух недель. В ходе испытаний раствор показал стабильно высокий результат, а выявляемые недостатки оперативно устранялись. После успешного внедрения собственной разработки на предприятии собрали пакет документов для ее вывода на рынок: технические условия ...
читать далее.
