24.09.2025  Новости, Государство и ИТ, Российские вендоры hardware, Соглашения, сотрудничество

23 сентября на площадке российского форума «Микроэлектроника 2025» подписан договор на поставку первой отечественной установки совмещения и проекционного экспонирования c разрешением 350 нм (фотолитографа) между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и Отраслевыми решениями (входят в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT, резиденты ОЭЗ «Технополис Москва»), в развитие подписанного годом ранее соглашения ЗНТЦ и Микрона (входит в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT), резидента ОЭЗ «Технополис Москва». Фотолитограф ЗНТЦ предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольшой интегральной схемы (СБИС) с проектной топологической нормой 350 нм. Договор, подписанный генеральным директором АО «ЗНТЦ» Анатолием Ковалевым и генеральным директором АО «Отраслевые решения» Дмитрием Ершом, включает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования. «В ходе проекта мы совместно с ЗНТЦ работали над технологией переноса изображения под задачи Элемента и Микрона. Подтверждено соответствие всем параметрам, заявленным в техзадании на ОКР», — сообщила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон», председатель совета директоров АО «Отраслевые решения». «Сегодня мы закладываем фундамент нового этапа развития отечественной микроэлектроники. В ЗНТЦ завершена разработка установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм, ее параметры подтверждены на производственной ... читать далее.